誘電体コーティングは、異なる屈折率をもつ層で構成されます。誘電体コーティングには、主に、電子ビーム蒸着（E-beam），イオンアシスト蒸着（IAD），イオンビームスパッタリング（IBS）の3つの方法があります。これらの方法は原理的には全く同じもので、コーティング物質を蒸発させ、基板に蒸着させます。異なるのは蒸着エネルギーです。

電子ビーム蒸着は低エネルギーのため、スポンジのように薄膜内に気泡や細孔があります。これらはいずれ水分で満たされるため、コーティングの屈折率、つまり光学的特性が変化することになります（“環境による変化”）。また、水分の存在は、オプティクスの損傷閾値の低下を招きます。強い光にさらされると、水分の蒸発時にコーティングの一部も剥がされます。結果的に、水分がなくなってもコーティング層が不均一になり、理論的損傷閾値が低下します。この蒸着法の利点は、低コストで、広く知られており、非常に多用途であることです。またコーティング自体もわずかに柔軟性があり、オプティクスの機械的ストレスの耐性を向上させます。

イオンアシスト電子ビーム蒸着は、その結果からもイオンビームスパッタリングとE-beamの中間と言えます。

 イオンビームスパッタリングは、E-beamよりも100倍大きなエネルギーを持っています。そのため、コーティング層の分子は、蒸着時に共有結合を形成します。できたコーティングに気泡や細孔はなく、より均一で損傷閾値が高く、高繰り返し性の制御しやすいコーティングです。散乱および吸収特性もよく、全般的に高い仕様を示します（より広帯域，必要であればより狭いバンド幅，より高いスペクトル安定性…）。高精度のコーティングで、表面粗さを1ÅRMS以下、つまり<λ/5000以下に制御することができます。もちろん、コストも高くなり（原子をはじき出すのにとても時間がかかる）、コーティングの種類も制限される（ほとんどのUVコーティングで、スパッタ時にフッ素が解離してしまう：この場合はE-beamを利用）という欠点もあります。

弊社は各コーティングとも経験豊富で、様々な技術を駆使して行えるため、お客様の御要望に柔軟に対応することができます。Altechnaでご利用頂けるコーティングは以下の通りです。

・電子ビーム蒸着

・イオンアシスト蒸着

・イオンビームスパッタリング

必要なスペクトル感度や損傷閾値，硬度，表面品質などによって各方法を使い分けています。

補足

・0次（ZO）波長板は、波長や入射角，温度の変化にあまり依存しないため、一般的に好まれています。Altechnaでは、用途に応じた、エアスペースやオプティカルコンタクト（次頁の図面参照）の0次位相遅延補償板を製造可能です。

・エアスペース波長板は、高出力レーザのアプリケーションに使用することができます。損傷閾値は、水晶波長板で10 J/cm2以上，高出力用波長板で20 J/cm2以上，アクロマティック波長板で5 J/cm2以上となっています。